一般セッション(口頭講演)
[20p-143-1~12] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長
2018年9月20日(木) 13:45 〜 17:00 143 (143)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇伊東 智寛1、 土屋 雄司1、 一野 祐亮1、 吉田 隆1 (1.名大工)
14:00 〜 14:15
〇森 舜介1、 土屋 雄司1、 一野 祐亮1、 淡路 智2、 松本 要3、 和泉 輝郎4、 吉田 隆1 (1.名古屋大、2.東北大、3.九工大、4.産総研)
14:15 〜 14:30
〇堀出 朋哉1、 松本 要1 (1.九工大工)
14:30 〜 14:45
〇Alok Kumar Jha1、 Kaname Matsumoto1、 Tomoya Horide1、 Ataru Ichinose2、 Yutaka Yoshida3、 Satoshi Awaji4 (1.Kyushu Instt. of Technology、2.CRIEPI、3.Nagoya Univ.、4.Tohoku Univ.)
14:45 〜 15:00
〇井上 靖也1、 山口 滉太1、 濱田 剛1、 堀井 滋1、 一瀬 中2、 土井 俊哉1 (1.京大院エネ科、2.電中研)
15:00 〜 15:15
〇一瀬 中1、 山口 滉太2、 堀井 滋2、 土井 俊哉2 (1.電中研、2.京大院エネ科)
15:30 〜 15:45
〇宮島 友博1、 寺西 亮1、 佐藤 幸生1、 金子 賢治1、 中村 美幸2、 Petrykin Valery2、 Lee Sergey2、 淡路 智3、 岡田 達典3、 松本 明善4 (1.九大工、2.SuperOx Japaan、3.東北大、4.物材機構)
15:45 〜 16:00
〇寺西 亮1、 宮島 友博1、 佐藤 幸生1、 金子 賢治1、 Petrykin Valery2、 Lee Sergey2、 淡路 智3、 岡田 達典3、 松本 明善4 (1.九州大工、2.SuperOx Japan、3.東北大学、4.物質・材料研究機構)
16:00 〜 16:15
〇舩木 修平1、 宮地 優悟1,2、 髙田 綾1、 畠田 菜月1、 山田 容士1 (1.島根大総理工、2.学振特別研究員DC)
16:15 〜 16:30
〇松本 凌1,2、 渋谷 直哉1、 西島 元1、 足立 伸太郎1、 田中 橘平3、 原 裕1,2、 山下 愛智1,2、 田中 博美3、 竹屋 浩幸1、 高野 義彦1,2 (1.物材機構、2.筑波大、3.米子高専)
16:30 〜 16:45
〇(M2)戸倉 史暁1、 堀出 朋哉1、 松本 要1、 一瀬 中2 (1.九工大、2.電中研)
16:45 〜 17:00
〇(P)今野 俊生1、 鷹巣 幸子1、 福田 大治1 (1.産総研)