[19p-234A-1~10] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[19p-234A-3] Realization of polyimide / Al junction using sputtering effects of Ar fast atom beam

〇(M2)Hideyuki Akazawa¹, Liang Jianbo¹, Matsubara Moeko², Dhamrin Marwan², Nishio Yoshitaka², Shigekawa Naoteru¹ (1.Osaka City Univ., 2.Toyo Aluminium K.K.)

Keywords:fast atom beam, polyimide

我々はより低抵抗、低損失の配線を目指し金属箔を利用した厚膜配線を研究している。今回、フレキシブル基板上の厚膜配線作製に向けてpolyimideとAl 箔の直接接合をAr高速原子ビームを利用することで達成した。また、作製した試料に400～600℃の熱処理を行い、その耐熱性を評価した。