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△ [21p-146-14] Quality Improvement and Suppression of Cracking for High-Temperature Annealed AlN Films
Keywords:AlN, Sputtering, Annealing
高効率深紫外光源実現のために高品質AlN/サファイアテンプレートが求められている。我々のグループでは、スパッタ法による成膜と高温アニールを用いて、サファイア基板上に安価かつ簡便に低転位密度のAlN膜が作製可能であることを報告してきた。今回、スパッタ成膜時の条件によってAlN膜に蓄積される応力を制御することで、高温アニールに伴うAlN膜へのクラック発生を抑制しつつ、従来以上の結晶性向上を確認した。