09:15 〜 09:30
〇田中 航大1、前田 悦男1、割澤 伸一1,2、米谷 玲皇1,2 (1.東大院工、2.東大院新領域)
一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
09:15 〜 09:30
〇田中 航大1、前田 悦男1、割澤 伸一1,2、米谷 玲皇1,2 (1.東大院工、2.東大院新領域)
09:30 〜 09:45
〇(B)田中 佐和子1、大西 脩平1、石田 誠1、澤田 和明1、石井 仁1、町田 克之2、益 一哉2、二階堂 靖彦3、齋藤 光正3、吉田 眞一4 (1.豊橋技科大、2.東工大、3.産業医科大学、4.福岡聖恵病院)
09:45 〜 10:00
〇熊谷 隼人1、高橋 功2、武岡 真司2,3、澤田 和明1、藤枝 俊宣2,3、髙橋 一浩1,3 (1.豊橋技科大、2.早大、3.JST さきがけ)
10:00 〜 10:15
〇小林 弘人1、横川 凌1,2、鈴木 貴博1、沼沢 陽一郎1、小椋 厚志1、西澤 伸一3、更屋 拓哉4、伊藤 和夫4、高倉 俊彦4、鈴木 慎一4、福井 宗利4、竹内 潔4、平本 俊郎4 (1.明治大理工、2.学振特別研究員 DC、3.九州大工、4.東京大工)
10:15 〜 10:30
〇松川 貴1、森 貴洋1、澤田 佳宏2、木下 洋平2、柳 永勛1、昌原 明植1 (1.産総研、2.東京応化工業)
10:30 〜 10:45
〇永尾 友一1、井内 裕1、立道 潤一1、安田 圭佑2、上原 拓磨2、蓮見 真彦2、鮫島 俊之2 (1.日新イオン機器、2.東京農工大工)
10:45 〜 11:00
〇Keisuke Yasuta1、Takuma Uehara1、Masahiko Hasumi1、Tomokazu Nagao2、Yutaka Inouchi2、Toshiyuki Sameshima1 (1.TUAT、2.NISSIN ION EQUIPMENT Co.)
11:00 〜 11:15
〇中田 真史1、山本 将輝1、入江 翔1、小又 祐介1、青木 孝1、鮫島 俊之2、水野 智久1 (1.神奈川大理、2.東京農工大工)
11:15 〜 11:30
入江 翔1、〇山本 将輝1、中田 真史1、小又 祐介1、青木 孝1、鮫島 俊之2、水野 智久1 (1.神奈川大学理、2.東京農工大工)
11:30 〜 11:45
〇金澤 力斗1、小又 祐介1、井口 裕輔1、青木 孝1、鮫島 俊之2、水野 智久1 (1.神奈川大学理、2.東京農工大工)
要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン