2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19a-C302-1~12] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年3月19日(月) 09:00 〜 12:15 C302 (52-302)

三好 実人(名工大)

10:00 〜 10:15

[19a-C302-5] GaNホモエピ膜のTR-PL信号における遅い時定数成分に対する数値解析

加藤 正史1,3、浅田 貴斗1、伊藤 健治2、冨田 一義2、成田 哲生2、加地 徹3 (1.名工大、2.豊田中研、3.名大)

キーワード:GaN、時間分解フォトルミネッセンス、深い準位

GaNホモエピ膜はパワーデバイスのドリフト層としての利用が期待されており、その品質評価は重要である。我々は時間分解フォトルミネッセンス(TR-PL)法とマイクロ波光導電減衰法によりn型GaNホモエピ膜を評価してきている。本発表においてはTR-PL信号での遅い時定数成分に対して、深い準位の捕獲・放出の速度方程式を用いた数値解析結果を報告する。