The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20a-C204-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Tue. Mar 20, 2018 9:00 AM - 12:15 PM C204 (52-204)

Masanori Shinohara(Natl. Inst. of Tech.,Sasebo Col.)

9:45 AM - 10:00 AM

[20a-C204-4] Simulation of Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Hydrocarbon Plasmas for Carbon Materials Fabrication

〇(M2)Kazuma Ohki1, Akinori Oda1, Takayuki Ohta2, Hiroyuki Kousaka3 (1.Chiba Inst. Technol., 2.Meijo Univ., 3.Gifu Univ.)

Keywords:Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Plasma, Hydrocarbon Plasma, Diamond-Like Carbon

非平衡大気圧プラズマは,化学的に活性な低温プラズマであり,炭素材料の創製に利用されている。これらの成膜法である大気圧プラズマCVD法の最適化を図る上では,この大気圧プラズマの生成維持メカニズムの解明のみならず,成膜に寄与する炭素源の生成を決定するプラズマの基礎特性の把握が重要である。本研究では,He希釈されたCH4ガスでの非平衡大気圧プラズマの空間一次元流体モデルを構築および解析を行った。