The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[18p-C309-1~13] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Wed. Sep 18, 2019 1:45 PM - 5:15 PM C309 (C309)

Akihisa Ogino(Shizuoka Univ.), Shota Nunomura(AIST)

2:00 PM - 2:15 PM

[18p-C309-2] Effect of H2-N2 plasma exposure on micro/nanostructured titanium

〇(M2C)Zhongqiu Lin1, He Wang1, Naoki Aoyama1, Toshiaki Suzuki1, Masaaki Niwa1, Mitsuya Motohashi1 (1.Tokyo Denki Univ.)

Keywords:plasma treatment, titanium, nanostructure

チタン材料は生体、バイオ、電子・光デバイスなどへの応用が検討されている。そして、それらの表面物性及び特性を制御するために、プラズマ処理が多く用いられている。この処理効果を高め、更に新機能を付加させるために、本研究では微細構造を持つチタン表面へのグロー放電プラズマ処理効果について検討した。その結果、表面構造のサイズによって処理効果の程度が異なることが分かった。