2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[18p-C309-1~13] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2019年9月18日(水) 13:45 〜 17:15 C309 (C309)

荻野 明久(静大)、布村 正太(産総研)

14:45 〜 15:00

[18p-C309-5] 変調-無変調Ar/CH4/H2誘導熱プラズマの時間直列照射法を用いた多結晶ダイヤモンド膜生成の圧力依存性

〇(M1)畑 和史1、加納 直樹1、中野 裕介1、田中 康規1、上杉 喜彦1、石島 達夫1 (1.金沢大学)

キーワード:変調誘導熱プラズマ、無変調誘導熱プラズマ、多結晶ダイヤモンド

変調誘導熱プラズマ(M-ITP)+無変調誘導熱プラズマ(NM-ITP)の時間直列照射による多結晶ダイヤモンド膜生成のトーチ内圧力依存性を検討した。圧力を30,60および180 torrとし, Si基板に対しM-ITPおよびNM-ITPの順にそれぞれ30分ずつ照射した。その結果, 圧力が低いほどダイヤモンド膜生成レートが高くなった。これは, 低圧力下では照射される炭化水素系粒子束が多くなるためと考えられる。