2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19a-E304-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:00 E304 (E304)

米谷 玲皇(東大)、福島 誉史(東北大)

11:00 〜 11:15

[19a-E304-9] 微細加工した圧延ロールによるアルミ材の艶消しパターン転写

弓削 英翔1、鈴木 大瑛1、〇佐々木 実1 (1.豊田工大)

キーワード:微細パターン形成、圧延加工、三次元フォトリソグラフィ

微細パターンの潜像までを用意したレジスト膜を貼り付ける新しい三次元フォトリソグラフィ技術により、圧延ロール円筒面にリング状パターンのアレイを微細加工した。得られた圧延ロールによってアルミ板にリング形状パターンを転写した。設計の最小値900 dpiアレイまでを転写できた。圧延では、アルミ材のむしれが見当たらなかった。微細パターンほど、照明光を様々な方向に広い角度範囲で回折・反射することを示した。