The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Symposium (Oral)

Symposium » Progress of characterization and monitoring techniques that reveal fundamental of light process

[10p-M114-1~12] Progress of characterization and monitoring techniques that reveal fundamental of light process

Sun. Mar 10, 2019 1:30 PM - 6:15 PM M114 (H114)

Daisuke Nakamura(Kyushu Univ.)

4:30 PM - 4:45 PM

[10p-M114-7] In-process measurement of processed hole depth under femtosecond laser processing using optical coherence tomography with swept light source

Satoshi Hasegawa1, Masatoshi Fujimoto2, Yoshio Hayasaki1 (1.Utsunomiya Univ., 2.Hamamatsu Photonics)

Keywords:femtosecond laser processing, optical coherence tomography

本研究では,フーリエドメイン光干渉断層法(FD-OCT) を用いて,レーザー加工中の穴深 度のインプロセス計測を行う.FD-OCT は,機械的な走査が不要で瞬時に深さ情報を定量的に取得できるため,インプロセス計測に適し ている.また,FD-OCT の中でも波長掃引型 (SS-OCT)は,光散乱の影響を受けにくい波 長1.3µm帯を利用するため,レーザー加工時に発生する噴出物の影響下での計測を可能にする.