[11p-W641-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[11p-W641-14] Effects of the Antenna Structure for Inductively Coupled Plasma to Etch Rate Uniformity

〇Yuta Sugimoto¹, Masashi Yamage¹, Yoshie Okamoto², Tomoaki Yoshimori², Hidetada Azumano² (1.TOSHIBA, 2.SHIBAURA MECHATRONICS)

Keywords:plasma, antenna

異なる膜種や被覆率で面内均一性の良いドライエッチング処理が可能となる二重アンテナの開発に際し，インナーアンテナによるER面内分布の歪み，中心ずれが課題であった。インナーアンテナは小径であり，その構造非対称性の影響がER面内分布に大きく出ると考えた。そこで，この問題を解決するアンテナ形状を計算，シミュレーションにより予測し作製，二重アンテナとしてのER面内分布制御能力を評価した。