[12a-W641-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[12a-W641-14] Development of programmable RAS system

〇Yasuhito Tanaka^1,2, Hideo Isshiki², Shinichiro Saisho¹ (1.SHINCRON, 2.UEC)

Keywords:Sputtering

これまで金属酸化物薄膜の作製には、RFスパッタやデュアルカソード、パルススパッタなどさまざまな手法が確立されているが、アーキングや成膜速度が課題とされている。我々も金属不完全超薄膜の成膜プロセスとラジカル源による反応プロセスとを空間的に分離し、高速に繰り返し成膜するRASを開発し、量産機として高品質な酸化物薄膜の高速成膜を実現してきた。本研究では、これまでにない新たな装置、プログラマブルRASを提案する。