一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜
13:00 〜 13:15
〇右田 翼1、小舟 正文1、高崎 英幸1、伊藤 稜1、菊池 丈幸1、藤沢 浩訓1、神田 健介1、前中 一介1 (1.兵県大工)
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13:15 〜 13:30
〇辻口 良太1、蔡 松霖2、角嶋 邦之2、野平 博司3 (1.都市大院理工、2.東工大、3.都市大)
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13:30 〜 13:45
〇(M2)安岡 慎之介1、清水 荘雄1,2、上原 雅人3、山田 浩志3、秋山 守人3、舟窪 浩1 (1.東工大、2.物材研、3.産総研)
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13:45 〜 14:00
〇窪田 るりか1、伊東 良晴1、黒澤 実1、舟窪 浩1 (1.東京工業大学)
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14:00 〜 14:15
〇(PC)伊東 良晴1、舘山 明紀1、黄 宇1、窪田 るりか1、黒澤 実1、舟窪 浩1 (1.東工大)
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14:15 〜 14:30
〇蔡 慶政1、譚 賡2、神野 伊策1 (1.神戸大工、2.大阪府立大)
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14:45 〜 15:00
〇(D)Viswanath Pamarti1、K. Kanishka H. De Silva1、Masamichi Yoshimura1 (1.Toyota Tech Inst.)
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15:00 〜 15:15
〇松本 周作1、本多 稜1、古川 昭雄1 (1.東理大電電)
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15:15 〜 15:30
〇中嶋 誠二1、木村 伶志1、岩田 侑樹1、藤沢 浩訓1 (1.兵庫県立大工)
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15:30 〜 15:45
〇小山手 厚人1、藤沢 浩訓1、中嶋 誠二1 (1.兵庫県大工)
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15:45 〜 16:00
〇村上 修一1、吉村 武2、金岡 祐介1、佐藤 和郎1、藤村 紀文2 (1.大阪技術研、2.大阪府大院工)
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16:00 〜 16:15
〇(M1)Aphayvong Sengsavang1、Takeshi Yoshimura1、Kensuke Kanda2、Shuichi Murakami3、Norifumi Fujimura1 (1.Osaka Pref. Univ.、2.Univ. of Hyogo、3.ORIST)
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