2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

[11p-S301-1~7] 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

2021年9月11日(土) 13:30 〜 16:55 S301 (口頭)

関根 誠(名大)、金 載浩(産総研)

16:15 〜 16:45

[11p-S301-6] Atomic Layer Etchingの現状と今後の展望

深沢 正永1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ)

キーワード:エッチング、プラズマ、アトミックレーヤーエッチング