[19p-Z24-1~10] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[19p-Z24-3] Si Three-Dimensional Structure Annealing In a Hydrogen Atmosphere Using a Minimal Laser Heating Tool

〇kazushige sato^1,4, Takashi Chiba^1,4, Masao Terada^1,4, Kengo Hamada^1,4, Yoshiyuki Nakayama³, Yoshiaki Kanamori³, Hiroyuki Tanaka², Masashi Kase², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.Tohoku Univ., 4.Sakaguchi E.H VOC Corp.)

Keywords:Minimal Fab, Laser Heating

MEMSデバイスの基本構造であるカンチレバー構造を試作し、その立体構造に対して開発中のミニマルレーザ水素アニール装置を用い表面処理を実施し、その効果を調べた。