[22p-A406-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [22p-A406-2] Effects of Plasma-damaged Surface Structure on Mechanical Property Change in Silicon Nitride Films

〇Takahiro Goya¹, Keiichiro Urabe¹, Koji Eriguchi¹ (1.Kyoto Univ.)

Keywords:plasma induced damage, mechanical property evaluation, nanoindentation

プラズマプロセスは，材料表面近傍にプラズマ誘起ダメージ（PID）を形成する．高アスペクト比構造や歪みによる電荷移動度制御を取り入れた先端半導体デバイスの更なる発展には，PIDを考慮した機械特性制御が重要である．今回，PID形成後のシリコン窒化（SiN）膜に対してウェットエッチングを用いた表面酸化層除去による効果を調べた．様々なPIDプロファイルがSiN膜の機械特性に及ぼす影響をナノインデンテーションにより評価した．