[22p-A406-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[22p-A406-8] [Young Scientist Presentation Award Speech] Imaging measurement of angular distribution of high-speed particles from a dual-frequency capacitively-coupled plasma incident on an RF electrode

〇Keita Ichikawa¹, Haruka Suzuki¹, Daiki Iino², Hiroyuki Hukumizu², Kazuaki Kurihara², Hirotaka Toyoda^1,3 (1.Nagoya Univ., 2.Kioxia Corp., 3.NIFS)

Keywords:Angular distribution function, Dual-frequency capacitively-coupled plasma, semiconductor

近年、半導体デバイスの高集積化が進んでおり、二周波重畳容量結合型プラズマを用いた高アスペクト比プロセスの重要性が増している。本研究では電極にオリフィスを設け、これを通過した粒子拡がりをマイクロチャネルプレートによりイメージング計測することで粒子の入射角度分布を測定した。その結果、熱運動に起因すると思われるGauss分布の形状をした成分とエネルギー分布に起因すると思われる成分が観測された。