一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2022年3月26日(土) 13:00 〜 16:45 E202 (E202)
佐々木 公平(ノベルクリスタルテクノロジー)、大島 祐一(物材機構)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇安岡 龍哉1、刘 丽2、ダン タイジャン2、川原村 敏幸1,2 (1.高知工大シス工、2.高知工大総研)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇高橋 勲1、富田 健稔1、菅原 孝昌2、庄子 育宏1、Kochurikhin Vladimir1、鎌田 圭1,2、柿本 浩一2,3、吉川 彰1,2 (1.㈱C＆A、2.東北大、3.九大)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇富樫 理恵1、鈴木 明香里1、石田 遥夏1、宇佐美 茂佳2、今西 正幸2、秦 雅彦3、森 勇介2 (1.上智大理工、2.阪大院工、3.伊藤忠プラスチックス(株))
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇今西 正幸1、小林 大也1、奥村 加奈子1、細川 敬介1、宇佐美 茂佳1、富樫 理恵2、秦 雅彦3、森 勇介1 (1.阪大院工、2.上智大理工、3.伊藤忠プラスチックス(株))
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇守屋 亮1、高根 倫史2、山下 修平1、山藤 祐人1、城川 潤二郎1、松倉 誠3、小島 孝広3、四戸 孝4、金子 健太郎2、荒木 努1 (1.立命館大学、2.京都大学、3.(株)オキサイド、4.(株)FLOSFIA)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇河村 貴宏1、秋山 亨1 (1.三重大院工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇逸見 篤人1、宇野 和行1 (1.和歌山大システム工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇Zhenwei Wang1、Daiki Takatsuki2、Jianbo Liang2、Takahiro Kitada1、Naoteru Shigekawa2、Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Osaka City Univ.)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M2)廣田 奎史郎1、向井 剛輝1 (1.横浜国大院理工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇吉田 健治1、熊谷 博彦1、山根 貴好1、林 篤1、小山 千尋2、織田 裕久2、伊藤 剛2、石川 毅彦2 (1.ＡＧＣ株式会社、2.宇宙航空研究開発機構)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇小山 政俊1、豊田 和晃1、大内 涼介1、廣芝 伸哉1、小池 一歩1 (1.大阪工大ナノ材研)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇内田 悠貴1、加藤 圭一郎2、増田 匠2、佐々木 公平1、佐藤 宣夫2、山本 秀和2 (1.ノベルクリスタルテクノロジー、2.千葉工大工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(M2)Muhidul Islam Chaman1、Sayleap Sdoeung1、Makoto Kasu1 (1.SAGA UNIV.)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(M2)Muhidul Islam Chaman1、Keigo Hoshikawa2、Sayleap Sdoeung1、Makoto Kasu1 (1.SAGA UNIV.、2.SHINSHU UNIV.)
スケジュール
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