[16a-B410-1~9] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2023年3月16日(木) 09:00 〜 11:30 B410 (2号館)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:00 〜 09:15

△ [16a-B410-1] パルス反転めっき法によるNi-W膜の作製と特性評価

〇顧沢宇¹、Jiang Yiming¹、栗岡智行¹、Chen Chun-Yi¹、曽根正人¹、Tso-Fu Mark Chang¹ (1.東工大)

09:15 〜 09:30

〇(B)菅野翔太¹、大村太郎¹、栗岡智行¹、Chun-Yi Chen¹、Parthojit Chakraborty¹、町田克之¹、伊藤浩之¹、三宅美博¹、曽根正人¹、Tso-Fu Mark Chang¹ (1.東工大)

09:30 〜 09:45

〇(M1)保里亮平¹、藤田一矢¹、Chun-Yi Chen¹、栗岡智行¹、Tso-Fu Mark Chang¹、Parthojit Chakraborty¹、町田克之¹、伊藤浩之¹、三宅美博¹、曽根正人¹ (1.東工大)

09:45 〜 10:00

〇(B)渡邉春海¹、Chun-Yi Chen¹、栗岡智行¹、Tso-Fu Mark Chang¹、大西哲¹、Parthojit Chakraborty¹、町田克之¹、伊藤浩之¹、三宅美博¹、曽根正人¹ (1.東工大)

10:15 〜 10:30

〇宮井良介¹、栗岡智行¹、Chun-Yi Chen¹、Tso-Fu Mark Chang¹、大西哲¹、Parthojit Chakraborty¹、町田克之¹、伊藤浩之¹、三宅美博¹、曽根正人¹ (1.東工大)

10:30 〜 10:45

〇(B)御宿希祐¹、大西哲¹、Tennteni Devi Srujana¹、町田克之¹、Chakraborty Parthojit¹、曽根正人¹、三宅美博¹、伊藤浩之¹ (1.東工大)

10:45 〜 11:00

〇太田涼介¹、割澤伸一¹、米谷玲皇¹ (1.東大工)

11:00 〜 11:15

〇(B)志水駿文¹、神田健介¹、前中一介¹ (1.兵庫県大工)

11:15 〜 11:30

〇(B)赤松儀優¹、神田健介¹、前中一介¹ (1.兵庫県大工)