9:45 AM - 10:00 AM
[15a-B410-4] Development of Minimal Fab laser heating tool for low-temperature processing at 300 - 600℃
Keywords:laser heating
ミニマルレーザ加熱の300~600℃の低温での加熱特性についてまだ十分に調べられていない。本報告では、円形のレーザのみでシリコンウェハを加熱し、実際に温度分布をサーモグラフィカメラにより調べた。
Oral presentation
13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology
Wed. Mar 15, 2023 9:00 AM - 11:30 AM B410 (Building No. 2)
Tatsuya Okada(Univ. of the Ryukyus), Yan Wu(Nihon Univ.)
9:45 AM - 10:00 AM
Keywords:laser heating