[15a-B410-1~9] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[15a-B410-4] Development of Minimal Fab laser heating tool for low-temperature processing at 300 - 600℃

〇kazushige sato^1,3, Takashi Chiba^1,3, Masao Terada^1,3, Kengo Hamada^1,3, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2,4 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.Sakaguchi E.H VOC Corp., 4.Hundred)

Keywords:laser heating

ミニマルレーザ加熱の300～600℃の低温での加熱特性についてまだ十分に調べられていない。本報告では、円形のレーザのみでシリコンウェハを加熱し、実際に温度分布をサーモグラフィカメラにより調べた。