2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[15p-B410-1~15] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2023年3月15日(水) 13:00 〜 17:30 B410 (2号館)

曽根 正人(東工大)、居村 史人(Hundred Semiconductors)

16:15 〜 16:30

[15p-B410-12] 絶縁体上における高電子移動度GeSn薄膜の低温合成

野沢 公暉1、西田 竹志1,2、末益 崇1、都甲 薫1 (1.筑波大院、2.学振特別研究員)

キーワード:半導体、トランジスタ