[15p-B410-1~15] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[15p-B410-2] Process Improvement of three-axes Piezo-resistive Accelerometer and Development of MEMS Device Yield Check Method in Full Minimal-Fab Process

〇Hiroshige Kogayu¹, Hiroyuki Tanaka², Fumito Imura^2,3, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2,3 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.Hundred)

Keywords:MINIMAL, MEMS, Sensor

前回ピエゾ抵抗型３軸加速度センサを試作して、加速度特性を得ることができた。今回はセンサの性能向上を図るとともに、PMOSトランジスタの同時形成、今後の生産フェーズを睨んでMEMS歩留の確認手法を検討した。ウェハ表裏の寸法ズレ低減などのプロセス改良を行い、また同時にPMOSトランジスタを作製し特性が得られた。MEMS歩留はウェハの直接実装により簡便に確認できることがわかった。