14:30-17:00　ポスター発表（環境）［9/13(水) PM ポスター会場］

[P035C] （学生発表：修士課程）As(III)酸化細菌と坑廃水処理場鉄澱物の組み合わせによる新規ヒ素汚染水処理法の開発

○川添 唯香¹、佐藤 由也²、片山 泰樹²、保高 徹生²、沖部 奈緒子¹ (1. 九州大学、2. 産業技術総合研究所)

キーワード：ヒ素、パッシブトリートメント、ヒ素酸化菌、鉄澱物、連続通水カラム試験

深刻な鉱害の1つとして、酸性鉱山廃水（AMD）や製錬廃液に含まれるヒ素（As）問題がある。Asは主に亜ヒ酸（H₃As^IIIO₃）またはヒ酸（H₃As^VO₄）の形態で溶存し、特に前者は毒性・溶解性が高い。そのため、As(III)酸化は効果的なAs除去の前提条件とされる場合が多い。従来の水処理法は薬剤や動力を大量消費するのに対し、パッシブトリートメントは種々の自然力を最大限に活用した低環境負荷な水処理法として期待が寄せられている。これまでに、国内の某AMD処理場にて発生する鉄含有廃棄物（Fe澱物）が高いAs(V)吸着除去能を有することを報告してきた。本研究では、更にFe澱物とAs(III)酸化細菌Thiomonas cuprinaの組み合わせによる、新たなAs(III)酸化不動化法の開発を試みた。フラスコバッチ試験では、微生物学的As(III)酸化活性の付与によるFe澱物のAs吸着能向上を確認した。本現象を連続試験で再現するにあたり、まずは、Th. cuprina細胞を担持したZeolite充填カラムによるAs(III)酸化試験（As(III) 100 ppm：pH 3.5）を実施した結果、HRT = 12 hで平均As(III)酸化率90%を達成した。今後は、本系より得られたAs(V)含有水をFe澱物充填カラムに通水し、As(V)不動化挙動を評価する予定である。