日本化学会 第101春季年会 (2021)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

18. 高分子 » 口頭A講演

[A26-4am] 18. 高分子

2021年3月22日(月) 09:00 〜 11:20 ルーム26 (年会オンライン)

座長:岡田 智、須賀 健雄

10:30 〜 10:40

[A26-4am-10] ビスマスカルボキシレート構造を有するポリマーのX線遮蔽特性

菊田 航平1、松村 吉将1、古川 喜久夫2、宮本 美幸2、西村 喜男2、落合 文吾1 (1. 山形大、2. 三菱瓦斯化学株式会社)

[言語]日本語

キーワード:ビスマス、有機-無機ハイブリッド、ラジカル重合、X線遮蔽