一般セッション(口頭講演)
[12a-B508-1~11] 3.5 レーザー装置・材料
2020年3月12日(木) 09:00 〜 12:00 B508 (2-508)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇川瀬 宏海1、 清野 雅己1、 田所 貴志1、 折井 庸亮2 (1.東京電機大学、2.スペクトロニクス)
09:15 〜 09:30
〇(B)塩谷 優太1、 藤田 将吾1、 神成 文彦1 (1.慶大理工)
09:30 〜 09:45
〇(P)Hengjun Chen1、 Hiyori Uehara1,2、 Hiroki Kawase2、 Weichao Yao1、 Ryo Yasuhara1,2 (1.NIFS、2.SOKENDAI)
09:45 〜 10:00
〇(B)日野 維乃1,2、 藤岡 加奈1、 横関 海翔1、 中野 人志2、 宮永 憲明3 (1.阪大レーザー研、2.近大理工、3.阪大レーザー総研)
10:00 〜 10:15
〇梅村 信弘1、 李 黎明1、 鈴木 拓朗1、 高橋 晴紀1、 神村 共住2 (1.公立千歳科技大理工、2.大阪工大工)
10:30 〜 10:45
〇(D)Yuanyuan Ma1、 Andrew J Lee2、 Helen M Pask2、 Takashige Omatsu1,3 (1.Chiba Univ.、2.MQ Photonics Research Center、3.Molecular Chirality Research Center)
10:45 〜 11:00
〇安宅 邦晶1、 村井 良多2、 高橋 義典2、 折井 庸亮3、 岡田 穣治3、 今西 正幸1、 森 勇介1、 吉村 政志2 (1.阪大院工、2.阪大レーザー研、3.スペクトロニクス)
11:00 〜 11:15
〇宮川 慶昭1、 安宅 邦晶2、 村井 良多1、 高橋 義典1、 折井 庸亮3、 岡田 穣治3、 中嶋 誠1、 森 勇介2、 吉村 政志1 (1.阪大レーザー研、2.阪大院工、3.スペクトロニクス)
11:15 〜 11:30
〇(M2)新沼 憲史郎1、 バレス アダム2、 後藤 駿介1、 宮本 克彦1,2、 尾松 孝茂1,2 (1.千葉大学大学院融合理工、2.千葉大学分子キラリティー研)
11:30 〜 11:45
〇Hejie Yan1,2、 Hoang Anh Truong2、 Kazuo Sato2、 Hirohito Yamada1,2、 Hiroyuki Yokoyama1,2 (1.Tohoku Univ.、2.NICHe, Tohoku Univ.)
11:45 〜 12:00
〇チューン ホアンアン1、 鄢 何傑2、 佐藤 和夫1、 山田 博仁1,2、 横山 弘之1,2 (1.東北大未来研、2.東北大)