一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
09:30 〜 09:45
〇田中 一1、森 伸也1 (1.阪大院工)
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09:45 〜 10:00
〇野口 宗隆1、渡邊 寛1、喜多 浩之2、西川 和康1 (1.三菱電機(株)、2.東大院新領域)
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10:00 〜 10:15
〇立木 馨大1、西谷 侑将1,2、岩田 潤一1,2、松下 雄一郎1,2,3 (1.東工大、2.Quemix Inc.、3.QST)
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10:15 〜 10:30
〇舩木 七星斗1、横田 知真1、植本 光治1、細井 卓治2、小野 倫也1 (1.神戸大工、2.関西学院大工)
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10:30 〜 10:45
〇(D)Yang Tianlin1、Koji Kita1,2 (1.School of Eng., The Univ. of Tokyo、2.School of Frontier Sci. , The Univ. of Tokyo)
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11:00 〜 11:15
〇佐々木 琉1、中島 辰海1、女屋 崇2、喜多 浩之1,2 (1.東大院工、2.東大院新領域)
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11:15 〜 11:30
〇Xilun Chi1、Keita Tachiki1、Kyota Mikami1、Mitsuaki Kaneko1、Tsunenobu Kimoto1 (1.Kyoto Univ.)
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11:30 〜 11:45
〇三上 杏太1、金子 光顕1、木本 恒暢1 (1.京大院工)
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11:45 〜 12:00
〇(M2)秋葉 淳宏1、矢野 裕司1 (1.筑波大学)
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