09:00 〜 09:20
○鶴岡 孝章1、大橋 卓史1、デメッセンス オード2、髙嶋 洋平1、赤松 謙祐1 (1. 甲南大学、2. リヨン環境・触媒研究所)
アカデミックプログラム[B講演]
20. 材料化学―基礎と応用 » 口頭B講演
2021年3月20日(土) 09:00 〜 10:40 ルーム28 (年会オンライン)
座長:澤田 英夫、奥村 和
09:00 〜 09:20
○鶴岡 孝章1、大橋 卓史1、デメッセンス オード2、髙嶋 洋平1、赤松 謙祐1 (1. 甲南大学、2. リヨン環境・触媒研究所)
09:20 〜 09:40
○劉 左悦1、Kyung Oh Jung2、高畑 遼3、坂本 雅典3、寺西 利治3、藤塚 守1、Guillem Pratx2、小阪田 泰子1 (1. 大阪大学、2. スタンフォード大学、3. 京都大学)
09:40 〜 10:00
○宮村 泰直1 (1. 昭和電工株式会社)
10:00 〜 10:20
○鄧 学良1、桑 静1、會澤 純雄1、森 克仁2、平原 英俊1 (1. 岩手大学、2. 株式会社いおう化学研究所)
10:20 〜 10:40
○権 正行1、五月女 聖1、田中 一生1、中條 善樹1 (1. 京大院工)