日本化学会 第101春季年会 (2021)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

18. 高分子 » 口頭A講演

[A10-2am] 18. 高分子

2021年3月20日(土) 09:00 〜 11:10 ルーム10 (年会オンライン)

座長:竹内 大介、青木 大輔

09:40 〜 09:50

[A10-2am-05] 4位にかさ高いトリアルキルシリル基を持つシスシソイダル型ポリ{3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン}の合成および高選択的環化芳香族化分解(SCAT)

阿部 幸也1、金子 隆司1、青木 俊樹1、寺口 昌宏1 (1. 新潟大院自然)

[言語]日本語

キーワード:ポリフェニルアセチレン、らせん構造、シスシソイダル構造、π-πスタッキング