一般セッション(口頭講演)

[16p-A13-1~14] 7.3 リソグラフィ

2013年9月16日(月) 13:30 〜 17:30 A13 (TC1 3F-323)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:30 〜 14:00

[16p-A13-1] 「ビーム応用分科内招待講演」（30分）ナノメカニクスとその波長計測への応用

^○米谷玲皇 (東大工)

14:00 〜 14:15

[16p-A13-2] 液晶プロジェクタを利用したデスクトップ型マスクレス露光装置の検討

^○小山宗一郎，斉藤健二，堀内敏行 (東京電機大院工)

14:15 〜 14:30

[16p-A13-3] レーザ描画によるステンレス細径管へのスリットパターン形成

^○坂部展士，堀内敏行 (東京電機大院工)

14:30 〜 14:45

[16p-A13-4] 微細管内面パターンの非破壊観察

^○（M1）木村のぞみ¹，佐藤圭介²，堀内敏行^1,2 (東京電機大院工¹，東京電機大工²)

14:45 〜 15:00

[16p-A13-5] 直交近接配列凹面パターンアレイの形成

^○（M1）笹木龍之介¹，小松原圭吾²，堀内敏行^1,2 (東京電機大院工¹，東京電機大工²)

15:00 〜 15:15

[16p-A13-6] Q値向上のための３次元ナノメカニカル共振器の設計と作製

^○山崎謙治，山口浩司 (NTT物性基礎研)

15:15 〜 15:30

[16p-A13-7] 超並列電子線描画装置用アクテイブマトリクスnc-Si面電子源の開発（III）

^○池上尚克¹，小島明²，吉田孝³，大井英之²，越田信義¹，江刺正喜³ (東京農工大¹，クレステック²，東北大³)

休憩　（15:30 〜 15:45）

15:45 〜 16:00

[16p-A13-8] 半導体露光用ＡｒＦエキシマレーザチャンバ寿命伸長技術

^○勝海久和，池田宏幸，浅山武志，對馬弘朗，熊崎貴仁，黒須昭彦，柿崎弘司，松永隆，溝口計 (ギガフォトン)

16:00 〜 16:15

[16p-A13-9] 半導体露光用高出力ＡｒＦエキシマレーザ（１２０Ｗ）の開発(Ⅲ)

^○本多基記，佐々木陽一，熊崎貴仁，對馬弘朗，黒須昭彦，柿崎弘司，松永隆，溝口計 (ギガフォトン)

16:15 〜 16:30

▲ [16p-A13-10] フォトレジスト溶解過程のその場観察 6

^○Juliusjoseph Santillan，井谷俊郎 (EUVL基盤開発センター)

16:30 〜 16:45

[16p-A13-11] TaN基板上の水溶性無機レジストの濡れ性改善の検討

^○谷野寛仁，福井翼，山口太都，江村和也，岡田真，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄 (兵庫県立大)

16:45 〜 17:00

△ [16p-A13-12] SR吸収分光法によるEUV用化学増幅系レジストの反応解析

^○（M1）江村和也¹，渡邊健夫¹，塩野大寿²，春山雄一¹，村松康司¹，大森克実²，佐藤和史²，原田哲男¹，木下博夫¹ (兵庫県立大¹，東京応化工業²)

17:00 〜 17:15

△ [16p-A13-13] 軟X線反射率改善用W/Siスーパーミラーの開発

^○九鬼真輝，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄 (兵庫県立大)

17:15 〜 17:30

[16p-A13-14] EUV光学素子用散乱測定系の開発

^○辻川大地，藤野貴大，田中祐輔，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄 (兵庫県立大)

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