一般セッション(口頭講演)

[19p-A13-1~7] 7.4 ナノインプリント

2013年9月19日(木) 13:30 〜 15:30 A13 (TC1 3F-323)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

13:30 〜 13:45

[19p-A13-1] ポーラスアルミナモールドを用いた光ナノインプリントによる階層構造の作製

^○柳下崇，西尾和之，益田秀樹 (首都大都市環境)

13:45 〜 14:00

^○（B）菅野矩弘，岡田真，春山雄一，松井真二 (兵庫県立大)

14:00 〜 14:15

^○（M1）大山貴弘^1,3，岡田真^1,3，伊吉就三^1,3，春山雄一^1,3，三宅弘人²，水田智也²，松井真二^1,3 (兵庫県立大¹，ダイセル²，JST-CREST³)

14:15 〜 14:30

^○伊吉就三^1,2，岡田真^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2，中川勝^2,3，廣島洋^2,4 (兵庫県立大¹，JST-CREST²，東北³，AIST⁴)

休憩　（14:30 〜 14:45）

14:45 〜 15:00

^○若葉瞳，岡田真，伊吉就三，春山雄一，松井真二 (兵庫県立大)

15:00 〜 15:15

^○生田目直季¹，池田弘²，酒井大輔¹，原田建治³，秋葉周作⁴，鈴木俊夫⁴，西井準治¹ (北大電子研¹，九大産学連携セ²，北見工大³，旭硝子中央研⁴)

15:15 〜 15:30

^○矢代航¹，野田大二²，服部正²，林好一³，百生敦¹，加藤秀実³ (東北大多元研¹，名古屋大院工²，東北大金研³)