08．プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜･表面処理

一般セッション(口頭講演)

[17a-C1-1~8] 8.3 プラズマ成膜･表面処理

2013年9月17日(火) 09:45 〜 11:45 C1 (TC3 1F-101)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:45 〜 10:00

[17a-C1-1] VHF-DC重畳マグネトロンプラズマの生成とプラズマ計測

^○小川勇人¹，福岡侑士¹，豊田浩孝^1,2 (名大工¹，名大プラズマナノ工学研究センター²)

10:00 〜 10:15

[17a-C1-2] 高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御

節原裕一¹，^○竹中弘祐¹，大谷浩史¹，金井厚毅¹，大崎創一郎¹，江部明憲² (阪大接合研¹，イー・エム・ディー²)

10:15 〜 10:30

[17a-C1-3] プラズマ支援ミストCVDによる微小凹凸構造を有した酸化亜鉛薄膜形成

^○竹中弘祐，節原裕一 (阪大接合研)

10:30 〜 10:45

△ [17a-C1-4] 大気圧プラズマを用いたミスト化学気相堆積法によるシリコン酸化膜の低温形成

^○（M2）孫昿達¹，竹田圭吾¹，伊藤仁^1,2，近藤博基¹，石川健治¹，関根誠¹，堀勝¹ (名大院工¹，東京エレクトロン²)

10:45 〜 11:00

△ [17a-C1-5] マルチホロー放電プラズマからのクラスター流出量のガス流速依存性

^○Susumu Toko，金淵元，橋本優史，金光善徳，徐鉉雄，内田儀一郎，鎌滝晋礼，板垣奈穂，古閑一憲，白谷正治 (九大)

11:00 〜 11:15

△ [17a-C1-6] マイクロ波励起水中気泡プラズマによるレジスト膜除去特性の調査

^○（M2）野阪幸平¹，石島達夫¹，田中康規¹，上杉喜彦¹，堀邊英夫²，後藤洋介² (金沢大¹，金沢工大²)

11:15 〜 11:30

△ [17a-C1-7] 大気圧プラズマジェットを用いた低合金鋼の浸窒焼入れにおける温度特性

^○井上貴史¹，市來龍大¹，山本宏文¹，吉田昌史²，赤峰修一¹，金澤誠司¹ (大分大工¹，静岡理工科大²)

11:30 〜 11:45

△ [17a-C1-8] 大気圧プラズマジェットによるチタン材料の窒化物合成

^○吉光祐樹¹，市來龍大¹，神田祥吾¹，吉田昌史²，赤峰修一¹ (大分大工¹，静岡理工科大²)

セッション一覧

08．プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜･表面処理

[17a-C1-1~8] 8.3 プラズマ成膜･表面処理

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[17a-C1-2] 高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御

[17a-C1-3] プラズマ支援ミストCVDによる微小凹凸構造を有した酸化亜鉛薄膜形成

△ [17a-C1-4] 大気圧プラズマを用いたミスト化学気相堆積法によるシリコン酸化膜の低温形成

△ [17a-C1-5] マルチホロー放電プラズマからのクラスター流出量のガス流速依存性

△ [17a-C1-6] マイクロ波励起水中気泡プラズマによるレジスト膜除去特性の調査

△ [17a-C1-7] 大気圧プラズマジェットを用いた低合金鋼の浸窒焼入れにおける温度特性

△ [17a-C1-8] 大気圧プラズマジェットによるチタン材料の窒化物合成

[18a-C1-1~5] 8.3 プラズマ成膜･表面処理

[18a-C1-1] グラフェンへのHfO₂のプラズマ支援原子層堆積

[18a-C1-2] 大気圧プラズマ重合による有機薄膜の作製評価

△ [18a-C1-3] ラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の結晶構造及びラジカル密度に対するガス流量効果

△ [18a-C1-5] プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の膜構造に対する基板バイアス印加効果

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△ [17a-C1-4] 大気圧プラズマを用いたミスト化学気相堆積法によるシリコン酸化膜の低温形成

△ [17a-C1-5] マルチホロー放電プラズマからのクラスター流出量のガス流速依存性

△ [17a-C1-6] マイクロ波励起水中気泡プラズマによるレジスト膜除去特性の調査

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△ [17a-C1-8] 大気圧プラズマジェットによるチタン材料の窒化物合成

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△ [18a-C1-5] プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の膜構造に対する基板バイアス印加効果

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