一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2016年3月21日(月) 13:45 〜 17:00 W541 (西5号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇(M1)吉田 知司1、大井 慎太郎1、山崎 泰誠1、Asubar Joel1、徳田 博邦1、葛原 正明1 (1.福井大院工)
スケジュール
いいね！
)
14:00 〜 14:15
〇野崎 幹人1、淺原 亮平1、伊藤 丈予1、渡邉 健太1、山田 高寛1、中澤 敏志2、按田 義治2、石田 昌宏2、上田 哲三2、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.パナソニック)
スケジュール
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)
14:15 〜 14:30
〇(B)渡邉 健太1、淺原 亮平1、伊藤 丈予1、野崎 幹人1、山田 高寛1、中澤 敏志2、按田 義治2、石田 昌宏2、上田 哲三2、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.パナソニック)
スケジュール
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)
14:30 〜 14:45
〇久保田 俊介1、中島 昭2、西澤 伸一2、大橋 弘通1、角嶋 邦之1、若林 整1、筒井 一生1 (1.東工大総理工、2.産総研)
スケジュール
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)
14:45 〜 15:00
〇(M1)篠倉 暁希1、徳田 博邦1、江戸 雅晴2、上野 勝典2、葛原 正明1 (1.福井大院工、2.富士電機)
スケジュール
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)
15:00 〜 15:15
〇山岡 優哉1,2、伊藤 和宏2、生方 映徳1、矢野 良樹1、田渕 俊也1、松本 功1、江川 孝志2 (1.大陽日酸、2.名工大)
スケジュール
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)
15:30 〜 15:45
〇加藤 直樹1、永井 昂哉1、成田 智隆1、長田 大和2、上村 隆一郎2、伊東 健治3、分島 彰男1、江川 孝1 (1.名工大院、2.ULVAC、3.金沢工大)
スケジュール
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)
15:45 〜 16:00
〇菅又 滉大1、金田 直樹2、三島 友義1、中村 徹1 (1.法政大、2.クオンタムスプレッド)
スケジュール
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)
16:00 〜 16:15
〇廣木 正伸1、熊倉 一英1、山本 秀樹1 (1.NTT物性研)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇八木 修一1、平田 祥子1、神山 祐輔1、中村 文彦1、斉藤 武尊1、河合 弘治1 (1.パウデック)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇吉野 理貴1、堀切 文正2、太田 博1、山本 康博1、三島 友義1、中村 徹1 (1.法政大、2.サイオクス)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(M1)山條 翔二1、尹 翔至1、梁 剣波1、渡邉 則之2、重川 直輝1 (1.大阪市大工、2.NTT 先端集積デバイス研)
スケジュール
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