一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
09:00 〜 09:15
〇(M1)塚本 匡秋1、細見 圭1、高廣 克己1、西山 文隆2、横山 新2 (1.京都工繊大工芸、2.広島大ナノ・バイオ融合研)
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09:15 〜 09:30
〇(P)市村 進1、高島 成剛1、流水 一平2、大久保 大地2、松尾 英明2、後藤 峰男2 (1.PLACIA、2.中日本炉工業)
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09:30 〜 09:45
〇竹中 弘祐1、吉谷 友希1、内田 儀一郎1、節原 裕一1 (1.阪大接合研)
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09:45 〜 10:00
〇(M2)大木 一真1、小田 昭紀1、太田 貴之2、上坂 裕之3 (1.千葉工大、2.名城大、3.岐阜大)
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10:00 〜 10:15
〇(B)三谷 隼弘1、上垣 良信2、佐藤 哲也1 (1.山梨大工、2.山梨県産技セ)
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10:15 〜 10:30
〇田中 智之1、木倉 丈1、竹本 啓輝1、垣内 弘章1、安武 潔1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)
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10:45 〜 11:00
〇(DC)杉浦 啓嗣1、近藤 博基1、石川 健治1、堤 隆嘉1、竹田 圭吾2、関根 誠1、堀 勝3 (1.名大院工、2.名城大理工、3.名大未来社会創造機構)
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11:00 〜 11:15
〇近藤 勇樹1、谷本 壮1、針谷 達1、依田 文徳1、出貝 敏1、須田 善行1、滝川 浩史1、権田 英修2、羽田野 泰弘3、神谷 雅男4 (1.豊橋技科大、2.オーエスジーコーティングサービス、3.小島プレス、4.伊藤光学)
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11:15 〜 11:30
〇宮原 奈乃華1、岩崎 和也1、石 榴1、山下 大輔1、中村 大輔1、徐 鉉雄1、古閑 一憲1、白谷 正治1、板垣 奈穂1 (1.九大シス情)
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11:30 〜 11:45
〇木元 雄一朗1、寺脇 功司1、山﨑 啓史1、前川 健史1、大参 宏昌1、垣内 弘章1、安武 潔1 (1.阪大院工)
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11:45 〜 12:00
〇杉山 雅浩1、名渕 雄太1、荻野 明久1 (1.静大院工)
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12:00 〜 12:15
〇若木 航1、三瓶 明希夫1、蓮池 紀幸1、鴨居 督2 (1.京工繊大、2.京都府中小企業技術センター)
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