13:15 〜 13:30
〇作田 良太1、西田 水輝1、平井 悠久1、喜多 浩之1 (1.東大院工)
一般セッション(口頭講演)
15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)
2018年3月20日(火) 13:15 〜 17:00 D103 (56-103)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇作田 良太1、西田 水輝1、平井 悠久1、喜多 浩之1 (1.東大院工)
13:30 〜 13:45
〇西田 水輝1、作田 良太1、平井 悠久1、喜多 浩之1 (1.東大院工)
13:45 〜 14:00
〇(B)小柳 潤1、平井 悠久1、喜多 浩之1 (1.東大院工)
14:00 〜 14:15
〇伊藤 滉二1、立木 馨大1、小林 拓真1、堀田 昌宏1、須田 淳1、木本 恒暢1 (1.京大工)
14:15 〜 14:30
〇立木 馨大1、小野 貴央1、小林 拓真1、木本 恒暢1 (1.京大院工)
14:30 〜 14:45
〇武田 紘典1、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工)
14:45 〜 15:00
〇野口 宗隆1、岩松 俊明1、網城 啓之1、渡邊 寛1、喜多 浩之2、山川 聡1 (1.三菱電機、2.東大院工)
15:15 〜 15:30
〇Adhi Dwi Hatmanto1、Koji Kita1 (1.Dept. of Materials Engineering, The Univ. of Tokyo)
15:30 〜 15:45
〇(D)榊間 大輝1、波田野 明日可1、牛流 章弘2、廣畑 賢治2、泉 聡志1 (1.東大工、2.(株)東芝)
15:45 〜 16:00
〇中島 誠志1、金子 光顕1、木本 恒暢1 (1.京大工)
16:00 〜 16:15
秋好 徹1、原田 優介1、福田 竜也1、〇村上 英一1 (1.九産大工)
16:15 〜 16:30
〇(M1)井上 純1、黒木 伸一郎1、石川 誠治2、前田 知徳2、瀬崎 洋2、牧野 高紘3、大島 武3、Mikael Ostling4、Carl-Mikael Zetterling4 (1.広島大学ナノデバイス、2.フェニテックセミコン、3.QST、4.スウェーデン王立工科大学)
16:30 〜 16:45
〇(B)根本 宏樹1、岡本 大1、染谷 満2、木内 祐治2、畠山 哲夫2、原田 信介2、岩室 憲幸1、矢野 裕司1 (1.筑波大学、2.産総研)
16:45 〜 17:00
〇(M2)永野 耕平1、目黒 達也1、武山 昭憲2、牧野 高紘2、大島 武2、田中 保宣3、黒木 伸一郎1 (1.広島大ナノデバイス、2.QST、3.産総研)
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