シンポジウム(口頭講演)
[10p-W241-1~8] 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ～薄膜形成からデバイス創出に至るまで～
2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:15 W241 (W241)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 14:15
〇浦岡 行治1、 パオロ ベルムンド1、 藤井 茉美1、 上沼 睦典1、 石河 泰明1 (1.奈良先端大)
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14:15 〜 14:45
〇古田 守1,2、 是友 大地1、 アマン メハディ1、 曲 勇作1 (1.高知工大、2.高知工大 総研)
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14:45 〜 15:00
〇岡崎 健一1、 生内 俊光1、 保坂 泰靖1、 山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
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15:00 〜 15:15
〇山本 哲也1、 古林 寛1、 牧野 久雄1 (1.高知工科大総研)
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15:30 〜 16:00
〇神谷 利夫1,2、 細野 秀雄1,2 (1.東工大フロンティア研、2.東工大元素セ)
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16:00 〜 16:45
〇細野 秀雄1 (1.東工大元素センター)
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16:45 〜 17:00
〇川原村 敏幸1,2、 西 美咲1、 刘 丽1、 坂本 雅仁1、 ﾙﾄﾝｼﾞｬﾝ ﾋﾟﾓﾝﾊﾟﾝ1、 佐藤 翔太1、 上田 真理子1、 安岡 達也1、 長谷川 諒1、 田頭 侑貴1、 尾崎 珠子1、 鄧 太 江1 (1.高知工大 シス工、2.高知工大 総研)
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17:00 〜 17:15
〇原田 尚之1、 伊藤 俊1、 塚﨑 敦1 (1.東北大金研)
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