[11a-PA5-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[11a-PA5-4] Low Temperature Synthesis and Property Evaluation of a - C: F Thin Films
Fabricated by Electronic Excitation of c-C₄F₈ / SiF₄ Mixed Condensed Layer

〇(M1)Toshihiro Mitani¹, Tetsuya Sato¹, Yuichiro Shiozawa², Yoshinobu Uegaki² (1.Univ. Yamanashi, 2.Yamanashi Indust. Tech. Center)

Keywords:plasma, fluorine resin, low temperature

我々は、種々のフッ素含有温室効果ガス（F-GHG）の分子氷（凝縮固体薄膜）に希ガスの直流放電で生成した低速電子線および準安定励起種を照射することにより、フッ素含有アモルファスカーボン膜（a-C:F）、アモルファスシリコン膜（a-Si:F）を極低温で合成し物性を明らかにしてきた。今回、a-C:Fの均一性や緻密性を高めることを目的としSi添加による表面形状変化を調査するため、c-C₄F₈原料ガスにSiF₄を混合して成膜を試みた。