一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2020年3月15日(日) 13:45 〜 16:30 A305 (6-305)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇野口 隆1、岡田 竜弥1 (1.琉球大学工学部)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M1)中面 僚介1、時枝 大祐1、阪本 弦太1、岡田 竜弥1、野口 隆1 (1.琉球大工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇佐々木 伸夫1,2,3、Muhammad Arif2、浦岡 行治2、後藤 順3、杉本 重人3 (1.Sasaki Consulting、2.奈良先端大、3.ブイ・テクノロジー)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇葉 文昌1、平末 充紀1、土屋 敏章1 (1.島根大自然科学)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇垂水 喜明1、林 将平1、川崎 直彦1、大塚 祐二1 (1.東レリサーチセンター)
スケジュール
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15:15 〜 15:45
〇仲島 義晴1 (1.ジャパンディスプレイ)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(B)倉重 貴行1、妹川 要1,2、中村 大輔1、佐道 泰造1、後藤 哲也3、池上 浩1,2 (1.九大、2.九大ギガフォトン共同部門、3.東北大未来研)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
宮崎 僚1、〇原 明人1 (1.東北学院大工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇平野 友貴1、河北 竜治1、花房 宏明1、東 清一郎1 (1.広大院先端研)
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