一般セッション(口頭講演)
[16a-Z17-1~8] 12.1 作製・構造制御
09:30 〜 09:45
難波 理1、 パンディ シャム1、 〇永松 秀一1 (1.九州工大)
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09:45 〜 10:00
〇丸山 伸伍1、 田中 深雪1、 小金澤 智之2、 神永 健一1、 松本 祐司1 (1.東北大院工、2.高輝度光科学研セ)
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10:00 〜 10:15
〇(M2)余 健1、 ソ ヒス1、 川口 純奈1、 村中 厚哉2、 内山 真伸2,3、 石飛 昌光4、 梅澤 洋史5、 田中 利彦2,5、 松本 真哉1,2、 青山 哲也2 (1.横国大院環情、2.理研CPR、3.東大院薬、4.ASET住友化学研、5.福島高専)
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10:15 〜 10:30
〇渡邉 智1、 小野 恵瑚1、 林 正太郎2、 國武 雅司1 (1.熊大工、2.高知工大)
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10:45 〜 11:00
〇園田 拓海1、 飯野 裕明1、 半那 純一1 (1.東工大未来研)
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11:00 〜 11:15
〇MANISH PANDEY1、 HERIYANTO SYAFUTRA1、 YUYA SUGITA1、 NIKITA KUMARI1、 SHYAM S. PANDEY2、 HIROAKI BENTEN1、 MASAKAZU NAKAMURA1 (1.NAIST、2.KYUTECH)
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11:15 〜 11:30
〇(D)Heriyanto Syafutra1、 Nikita Kumari1、 Shyam S. Pandey2、 Hiroaki Benten1、 Manish Pandey1、 Masakazu Nakamura1 (1.NAIST、2.KYUTECH)
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11:30 〜 11:45
〇(M2)Shubham Sharma1、 Nikita Kumari3、 Ajendra Kumar Vats1、 Shuichi Nagamatsu2、 Shyam S. Pandey1 (1.LSSE Kyutech、2.CSSE Kyutech、3.NAIST)
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