[17p-A205-1~18] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[17p-A205-16] Investigation of plasma dry etching of yttrium iron garnet using gas mixtures of argon and methane-hydrogen

〇(M1)Tatsuya Kitai¹, Siyuan Gao², Satoshi Iwamoto², Yasutomo Ota¹ (1.Keio Univ., 2.RCAST, the Univ. of Tokyo)

Keywords:plasma dry etching, yttrium iron garnet, magneto optics

通常の誘電体のみでは実現の難しい種々の非相反微小光デバイスの創出のため、磁気光学材料として物性に優れたイットリウム鉄ガーネット(YIG)によるナノ光構造の実現が望まれる。しかしYIGは微細加工が難しく、高度な微細加工には至っていない。今回我々は、YIGに対する新しい微細加工技術としてArとメタン水素の混合ガスによるドライエッチングを検討し、急峻なエッチング側壁角を実現したので報告する。