スケジュール 9 いいね! 0 [P001] ポリピロール被覆形状記憶高分子の近赤外光応答性評価 *恒川 唯1、遊佐 真一1、藤井 秀司2、中村 吉伸2 (1. 兵庫県立大学大学院工学研究科 (日本)、2. 大阪工業大学大学院工学研究科 (日本)) キーワード:形状記憶高分子、メニスカスクライミング、光熱変換、近赤外光、表面張力 要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。 » 参加者用ログイン