一般セッション(口頭講演)
[10p-S202-1~14] 15.6 IV族系化合物（SiC）
13:00 〜 13:15
〇(M2)井上 凱喜1、 古庄 智明2、 沓掛 健太朗2,3、 原田 俊太1,2、 田川 美穂1,2、 宇治原 徹1,2,4 (1.名大院工、2.名大未来研、3.理研AIP、4.産総研 GAN-OIL)
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13:15 〜 13:30
〇宇治原 徹1,2,3、 朱 燦1、 角岡 洋介1、 鈴木 皓己1、 郁 万成1、 劉 欣博2、 黨 一帆2、 古庄 智明1、 沓掛 健太朗1,3、 原田 俊太1,2、 田川 美穂1,2、 阿部 舞4、 田中 謙弥4 (1.名大未来研、2.名大工、3.理研AIP、4.日立金属)
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13:30 〜 13:45
〇山根 耀真1、 Weifang Lu1、 柳井 光佑1、 小寺 慶太1、 上山 智1、 竹内 哲也1、 岩谷 素顕1 (1.名城大理工)
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13:45 〜 14:00
〇小寺 慶太1、 柳井 光祐1、 山根 耀真1、 Weifang Lu1、 Yiyu ou2、 岩谷 素顕1、 竹内 哲也1、 上山 智1 (1.名城大理工、2.Technical University Denmark)
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14:15 〜 14:30
〇木村 友哉1、 長川 健太2、 押山 淳2、 白石 賢二2,1 (1.名大院工、2.名大未来研)
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14:30 〜 14:45
〇石川 諒弥1、 原 征大1、 田中 一1,2、 金子 光顕1、 木本 恒暢1 (1.京大院工、2.阪大院工)
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14:45 〜 15:00
〇三井 俊樹1、 加藤 正史1 (1.名工大)
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15:00 〜 15:15
〇田中 和裕1、 長屋 圭祐1、 加藤 正史1 (1.名工大)
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15:15 〜 15:30
〇村田 晃一1、 浅田 聡志1、 土田 秀一1 (1.電中研)
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15:30 〜 15:45
〇児島 一聡1、 佐藤 真一郎2、 大島 武2、 黒木 伸一郎3、 山口 浩1 (1.産総研、2.量研、3.広島大学)
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16:00 〜 16:15
〇松下 洋介1、 高野 和美1、 五十嵐 靖行1、 佐々木 宗生2、 山田 雄也2 (1.株式会社アイテス、2.滋賀県工業技術総合センター)
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16:15 〜 16:30
〇西尾 譲司1、 太田 千春1、 飯島 良介1 (1.東芝研開センター)
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16:30 〜 16:45
〇林 優也1、 羽深 等1、 高橋 至直2、 加藤 智久3 (1.横国大院理工、2.関東電化工業、3.産総研)
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16:45 〜 17:00
間明田 巧1、 〇滝澤 唯夏1、 羽深 等1、 石黒 暁夫2、 石井 成明2、 醍醐 佳明2、 伊藤 英樹2、 水島 一郎2、 高橋 至直3 (1.横浜国立大学、2.ニューフレアテクノロジー、3.関東電化工業)
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