第72回コロイドおよび界面化学討論会

講演情報

一般研究発表(口頭)

3. 組織化膜の科学と技術

[1C09-12] 組織化膜の科学と技術

2021年9月15日(水) 13:00 〜 14:20 C会場 (C会場)

Chair:松原 弘樹(広島大学)、藤森 厚裕(埼玉大学)

13:20 〜 13:40

[1C10] フォトレジストの再付着防止に及ぼすプルロニック系界面活性剤の添加効果:炭酸アルキレンの組成依存性

*永井 泰史1、大日向 秀収2、赤松 允顕1、酒井 健一1,3、酒井 秀樹1,3 (1. 東理大理工 (日本)、2. 野村マイクロ・サイエンス(株) (日本)、3. 東理大総研 (日本))

キーワード:炭酸アルキレン、フォトレジスト、プルロニック系界面活性剤、水晶振動子マイクロバランス

要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン