13:20 〜 13:40
[1C10] フォトレジストの再付着防止に及ぼすプルロニック系界面活性剤の添加効果:炭酸アルキレンの組成依存性
キーワード:炭酸アルキレン、フォトレジスト、プルロニック系界面活性剤、水晶振動子マイクロバランス
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一般研究発表(口頭)
3. 組織化膜の科学と技術
2021年9月15日(水) 13:00 〜 14:20 C会場 (C会場)
Chair:松原 弘樹(広島大学)、藤森 厚裕(埼玉大学)
13:20 〜 13:40
キーワード:炭酸アルキレン、フォトレジスト、プルロニック系界面活性剤、水晶振動子マイクロバランス
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