[2C06-09] 組織化膜の科学と技術

[2C07] 表面増強赤外吸収分光法を用いたベシクルによる支持二分子膜の形成挙動解析

*菅原 規¹、津村 加奈¹、宮崎 敦史¹、本林 健太²、坂井 隆也¹ (1. 花王（株）マテリアルサイエンス研究所 (日本)、2. 名工大物理工 (日本))

キーワード：支持二分子膜、ベシクル、表面増強赤外吸収分光法