[P001-002] 1. 総合セッション

[P001] ポリピロール被覆形状記憶高分子の近赤外光応答性評価

*恒川 唯¹、遊佐 真一¹、藤井 秀司²、中村 吉伸² (1. 兵庫県立大学大学院工学研究科 (日本)、2. 大阪工業大学大学院工学研究科 (日本))

キーワード：形状記憶高分子、メニスカスクライミング、光熱変換、近赤外光、表面張力