スケジュール 4 いいね! 0 [P106] SiO2@高分子電解質ゲルを用いた移流集積による非最密充填構造の粒子膜作製 *熊本 聖菜1、久原 郁也1、川喜田 英孝2、大渡 啓介2、森貞 真太郎2 (1. 佐賀大学大学院理工学研究科 (日本)、2. 佐賀大学理工学部 (日本)) キーワード:非最密充填単粒子膜、移流集積、高分子電解質ゲル修飾シリカ粒子 要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。 » 参加者用ログイン