一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2017年3月17日(金) 09:00 〜 12:45 E206 (E206)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇當間 拓矢1、諏訪 輝1,2、谷山 大地1、中村 大輔1、池上 浩1,2 (1.九大、2.九大ギガフォトン共同部門)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇岡本 隼人1、山本 圭介1、王 冬1、中島 寛2 (1.九大・大学院総合理工学府/研究院、2.九大・グローバルイノベーションセンター)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇野田 周一1、李 耀仁2、洪 子杰3、薛 富國2,3、李 義明3、寒川 誠二1,3 (1.東北大、2.台湾国家奈米元件実験室、3.台湾交通大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇(M1)Luo Xuan1、西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大院工)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大院工)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇岡田 直也1,2、内田 紀行1、金山 敏彦1 (1.産総研、2.JSTさきがけ)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇塚本 祐也1、左 偉光1、大見 俊一郎1 (1.東工大工学院)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇徳田 祥典1、原田 一範1、石川 諭1、今泉 俊介2、高本 聡2、泉 聡志2 (1.東芝、2.東大院工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇中村 友洋1、葉 文章1、佐藤 俊一2 (1.島根大総理、2.リコー未来研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇谷村 英昭1、河原崎 光1、布施 和彦1、阿部 誠1、青山 敬幸1、加藤 慎一1、小林 一平1 (1.SCREENセミコンダクターソリューションズ)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇吉峯 遼太1、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大院)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇仲村 龍介1、奥川 将行1、沼倉 宏1、石丸 学2、保田 英洋3 (1.阪府大工、2.九工大工、3.阪大工)
スケジュール
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12:15 〜 12:30
〇宝玉 充1、泉田 貴士1、尾上 誠司1 (1.東芝SDS社)
スケジュール
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12:30 〜 12:45
〇杉崎 澄生1、松田 時宜1、木村 睦1 (1.龍谷大理工)
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