一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:00 〜 09:15
〇仲野 靖孝1、松本 実子1、穴田 智史1、山本 和生1、Si Young Bae2、田中 敦之2、本田 善央2、石川 由加里1、天野 浩2、平山 司1 (1.JFCC、2.名大)
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09:15 〜 09:30
〇(M1)朱 帥1、浅田 貴斗1、伊藤 健治2、冨田 一義2、成田 哲生2、加地 徹3、加藤 正史1,3 (1.名工大、2.豊田中研、3.名大)
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09:30 〜 09:45
〇新宮 一恵1、大渕 真澄1、Hockett Richard2、Wang Larry2 (1.ナノサイエンス、2.EAG)
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09:45 〜 10:00
〇(M2)小木曽 達也1、吉田 光1、徳田 豊1、成田 哲生2、冨田 一義2、加地 徹3 (1.愛知工大、2.豊田中央研究所、3.名古屋大学)
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10:00 〜 10:15
〇塩島 謙次1、佐川 知大1、堀切 文正2、成田 好伸2、吉田 丈洋2、三島 友義3 (1.福井大院工、2.サイオクス、3.法政大)
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10:15 〜 10:30
〇堀田 昌宏1、須田 淳1,2,3 (1.京大院工、2.名大院工、3.名大未来研)
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10:45 〜 11:00
〇鐘ヶ江 一孝1、成田 哲生2、冨田 一義2、加地 徹3、堀田 昌宏1、木本 恒暢1、須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.豊田中央研究所、3.名大未来材料・システム研究所、4.名大院工)
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11:00 〜 11:15
〇(M1)坂尾 佳祐1、堀田 昌宏2、須田 淳1,2,3、朴 冠錫4、山岡 優哉4、矢野 良樹4、松本 功4 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来研、4.大陽日酸)
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11:15 〜 11:30
〇(M1)青島 慶人1、鐘ヶ江 一孝2、堀田 昌宏2、須田 淳1,3 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来研)
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11:30 〜 11:45
〇釣本 浩貴1、堀田 昌宏2、須田 淳1,3 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来研)
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11:45 〜 12:00
〇(M1)村瀬 亮介1、前田 拓也2、鐘ヶ江 一孝2、堀田 昌宏2、須田 淳1,2,3 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来材料・システム研究所)
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12:00 〜 12:15
前田 昌嵩1、〇塩島 謙次1、栗原 香2 (1.福井大院工、2.三菱ケミカル)
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12:15 〜 12:30
〇(M2)長澤 立樹1、中山 隆史1 (1.千葉大理)
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