一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2019年3月11日(月) 13:15 〜 17:15 M136 (H136)
渡邉 孝信(早大)、喜多 浩之(東大)、小林 清輝(東海大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇宝玉 充1、泉田 貴士1、谷本 弘吉1、青木 伸俊1、尾上 誠司1 (1.東芝メモリ)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇HuaHsuan Chen1、Daisuke Ohori1、Takuya Ozaki1、Mitsuya Utsuno2、Tomohiro Kubota2、Toshihisa Nozawa2、Seiji Samukawa1,3 (1.IFS, Tohoku Univ.、2.ASM Japan K.K.、3.AIMR, Tohoku Univ.)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(M2)Takeshi Nanke1、Ryu Hasunuma1 (1.Univ. of Tuskuba)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇影島 博之1,4、白石 賢二2,4、遠藤 哲郎3,4 (1.島根大、2.名古屋大、3.東北大、4.JST ACCEL)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇木我 亮太郎1、林 彩弥佳1、宮本 聡1、清水 康雄2、永井 康介2、遠藤 哲郎3,4、伊藤 公平1 (1.慶大理工、2.東北大金研、3.東北大CIES、4.JST-ACCEL)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇又賀 誠1、名倉 拓哉1、洗平 昌晃1,2、白石 賢二1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇首藤 広大1、吉仲 泰萌1、藤原 広大1、河原崎 光2、青山 敬幸2、加藤 慎一2、奈良 安雄1 (1.兵庫県立大工、2.(株)SCREENセミコンダクターソリューションズ)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(D)TsungEn Lee1、Mitsuru Takenaka1、Shinichi Takagi1 (1.Univ. of Tokyo)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇濱口 高志1、喜多 浩之1 (1.東大院工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇渡邉 龍一郎1、豊田 健一郎1、和知 祥太郎1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.東京農工大学院)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇Min Xie1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Akira Toriumi1 (1.Univ. Tokyo)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
王 旭1、西村 知紀1、〇鳥海 明1 (1.東大院工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇勝野 泰幸1、佐藤 亜武1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大学院工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇所附 武志1、岩崎 好考1、上野 智雄1 (1.東京農工大工)
スケジュール
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