09:30 〜 11:30
〇田中 佐和子1、崔 容俊1、石田 誠1、澤田 和明1、石井 仁1、町田 克之2、二階堂 靖彦3、齋藤 光正3、吉田 眞一4 (1.豊橋技科大、2.東工大、3.産業医科大学、4.福岡聖恵病院)
一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2019年3月12日(火) 09:30 〜 11:30 PB3 (武道場)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:30 〜 11:30
〇田中 佐和子1、崔 容俊1、石田 誠1、澤田 和明1、石井 仁1、町田 克之2、二階堂 靖彦3、齋藤 光正3、吉田 眞一4 (1.豊橋技科大、2.東工大、3.産業医科大学、4.福岡聖恵病院)
09:30 〜 11:30
〇東 大介1、瀬戸口 佳孝1、安東 靖典1 (1.日新電機)
09:30 〜 11:30
〇中家 大希1、斎藤 慎吾1、荒井 哲司1、上村 和貴1、有元 圭介1、原 康祐1、山中 淳二1、中川 清和1、高松 利行2、澤野 憲太郎3 (1.山梨大、2.エス・エス・ティー、3.東京都市大学)
09:30 〜 11:30
〇(B)香川 建1、河原 尊之1 (1.東京理科大工)
09:30 〜 11:30
〇平川 裕基1、Jeong-O Lee2、李 相錫1 (1.鳥取工、2.韓国化学研究院)
09:30 〜 11:30
〇西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大院工)
09:30 〜 11:30
〇浅野 孝典1、高石 理一郎1、田中 洋毅1、宮川 英典1、齋藤 真澄1 (1.東芝メモリ(株))
09:30 〜 11:30
〇(M2)黒田 雄貴1、大島 義文1 (1.北陸先端大)
09:30 〜 11:30
〇乙部 翔太1、渥美 賢1、古賀 達也1、山根 大輔1、飯田 慎一2、伊藤 浩之1、石原 昇1、町田 克之1、曽根 正人1、益 一哉1 (1.東工大、2.NTT-AT)
09:30 〜 11:30
〇鈴木 康介1、Ken Hashigata1、浅野 啓介1、Chun-Yi Chen1、名越 貴志2、Tso-Fu Mark Chang1、山根 大輔1、小西 敏文1,3、町田 克之1、伊藤 浩之1、益 一哉1、曽根 正人1 (1.東工大、2.産総研、3.NTT AT)
09:30 〜 11:30
〇新田 京太朗1、Tang Haochun1、Chen Chun-Yi1、Chang Tso-Fu Mark1、山根 大輔1、小西 敏文1,2、町田 克之1、伊藤 浩之1、益 一哉1、曽根 正人1 (1.東工大、2.NTT-AT)
09:30 〜 11:30
〇徳岡 賢一1、Chiu Wan-Ting1、Chen Chun-Yi1、Chang Tso-Fu Mark1、佐治 明子2、橋本 朋子2、黒子 弘道2、曽根 正人1 (1.東工大、2.奈良女)
09:30 〜 11:30
〇丸山 智史1、崔 容俊1、高橋 一浩1,2、澤田 和明1 (1.豊技大、2.JST さきがけ)
09:30 〜 11:30
〇有見 芳敬1、木村 安行1、若森 俊樹3、山本 洋夫3、岩田 達哉1,2、高橋 一浩1,2、水野 誠一郎3、澤田 和明1,2 (1.豊橋技術科学大、2.エレクトロニクス先端融合研究所、3.浜松ホトニクス株式会社)
09:30 〜 11:30
〇松田 崇行1、野間 正男2、山下 満3、長谷川 繁彦4、占部 継一郎5、江利口 浩二5、李 相錫1 (1.鳥大院工、2.神港精機、3.兵庫県立工業技術センター、4.阪大産研、5.京大工)
09:30 〜 11:30
〇Toshitaka Kikuchi1、Takashi Sugawara1、Takuma Uehara1、Tomoyoshi Miyazaki2,1、Go Kobayashi3、Masahiko Hasumi1、Takuji Arima1、Toshiyuki Sameshima1 (1.Tokyo University of Agriculture and Technology、2.Techno Research., Ltd.、3.ORC MANUFACTURING CO.,LTD)
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